中製首座電子束光刻機「羲之」問市 精度達0.6奈米

近日，位於杭州城西科創大走廊的浙江大學成果轉化基地傳來喜訊：作為基地首批簽約孵化項目之一，中國首台國產商業電子束光刻機「羲之」已進入應用測試，精度達0.6奈米、線寬8奈米，精度可比肩國際主流設備。「中國刻刀」的問世標誌著中國量子晶片研發邁上新台階，打破長期依賴國外光刻技術的困局。

杭州日報報導，測試現場，浙江大學餘杭量子研究院團隊忙於調試這台外貌如大型鋼櫃的新型光刻機。研發團隊負責人表示，「羲之」如同能在頭髮絲上雕刻地圖的「奈米神筆」，能用高能電子束在矽基晶片上直接「手寫」電路圖案，且可靈活修改設計，無需傳統光刻機所依賴的掩膜版，為量子晶片及新型半導體初期研發提供了關鍵支持。

「羲之」得到名字靈感來自中國書法大家王羲之，其電子束「毛筆」能精密完成奈米級的刻寫，特別適合多次反覆調試。此前，該類設備受國際技術出口限制，中國國內多家頂尖科研機構和企業無法採購，創新突破將有效改變現狀。

此外，該設備定價低於國際平均價，目前正與多家企業及科研單位展開合作洽談，預計將加快中國晶片產業的自主研發進程。

報導指出，「羲之」的成功並非孤例，其背後是科技創新與產業創新「兩新融合」的強力驅動。今年7月，省級教育科技人才一體改革專項試點項目落地位於餘杭區的浙江大學校友企業總部經濟園，浙江大學與該園聯手搭建了成果轉化高速路：園區企業開出「技術需求清單」；浙大教授帶研究生組隊「揭榜」；從實驗室樣品到量產產品，全流程陪跑。